ULVAC
Think Beyond Vacuum
沟槽结构可实现功率器件的小型化和低电阻,我们提供实现沟槽结构的干法刻蚀技术。
在高耐压应用中,为了避免电解集中,沟槽结构底部需要圆形
SiC坚硬,是化学特性稳定的材料,很难实现高刻蚀速率
和SiO2掩膜的选择比低的话,需要厚的SiO2掩膜
优化刻蚀条件以控制沟槽形状
实现侧壁平滑度和高选择比的工艺
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